[소비자경제신문 이한 기자] 이재용 삼성전자 부회장이 새해 첫 공식 일정을 반도체연구소에서 소화했다. '2030년 시스템반도체 세계 1위' 목표를 위한 상징적인 발걸음으로 해석된다.

이재용 삼성전자 부회장이 2일 화성사업장 내 반도체연구소를 찾았다. 이 부회장은 이 자리에서 삼성전자가 세계 최초로 개발한 3나노 공정기술을 보고 받고, DS부문 사장단과 함께 차세대 반도체 전략에 대해 논의했다. 이 자리에는 김기남 부회장, 정은승 사장, 진교영 사장 등 반도체 핵심 인력이 참석했다.

삼성전자 커뮤니케이션실 관계자는 “이 부회장이 새해 첫 경영 행보를 반도체 개발 현장에서 시작한 것은, 메모리에 이어 시스템 반도체 분야에서도 세계 1위가 되겠다는 비전을 다시 한번 임직원과 공유하며 목표달성 의지를 다진 것”이라고 설명했다.

이재용 부회장은 이날 현장에서 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다”고 강조했다. 아울러 “역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것이다. 잘못된 관행과 사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자"고 당부했다.

외형적인 성장만 강조한 것은 아니다. 이 부회장은 “우리 이웃, 우리 사회와 같이 나누고 함께 성장하는 것이 우리의 사명이자 100년 기업에 이르는 길임을 명심하자"고 강조했다.

3나노 반도체는 반도체 반도체 미세화의 한계를 극복할 수 있는 차세대 기술인 'GAA’를 적용한 방식이다. 최근 공정 개발을 완료한 5나노 제품에 비해 칩 면접을 약 35% 이상 줄일 수 있고, 소비전력을 50% 감소시키면서 성능(처리속도)은 약 30% 향상시킬 수 있어 효율적이다.

삼성전자는 지난해 4월 '2030년 시스템 반도체 세계 1위‘라는 청사진을 제시한 바 있다. 이재용 부회장이 새해 첫 행보를 반도체 현장에서 시작한 것은 그 목표를 향한 상징적인 의미로 해석된다.